產(chǎn)品分類(lèi)
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
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帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)...
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分體式單靶磁控鍍膜儀 本設(shè)備為單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備...
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雙靶磁控濺射鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)...
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磁控濺射/真空蒸發(fā)復(fù)合... 磁控濺射/真空蒸發(fā)復(fù)合型鍍膜設(shè)備將磁控濺射技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在同一鍍膜設(shè)備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺...
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三靶磁控濺射鍍膜儀(直... 三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)可選配...
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三靶磁控濺射鍍膜儀(直... 三靶磁控濺射鍍膜儀(直流)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀(直流)可選配直流電源功率...
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三靶磁控濺射鍍膜儀(射... 三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)可選配源功率從50...
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雙靶磁控濺射鍍膜儀（雙... 雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸2英...
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雙靶磁控濺射鍍膜儀(直... 雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)典型的高速低溫濺射實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)可選配直流電源和射頻...
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雙靶磁控濺射鍍膜儀(射... 雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)高速低溫濺射實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)可選配功率從500W-1000W不等的...
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雙靶磁控濺射鍍膜儀(直... 雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流)高速低溫濺射。雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流)可選配功率從500W-1000W不等的直流電源。
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單靶磁控濺射鍍膜儀（射... 單靶磁控濺射鍍膜儀（射頻）我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。單靶磁控濺射鍍膜儀（射頻）可選配500W-1...
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單靶磁控濺射鍍膜儀(直... 單靶磁控濺射鍍膜儀(直流)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。單靶磁控濺射鍍膜儀(直流)可選配功率從500...
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小型單靶磁控濺射鍍膜儀 小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸、2英寸可...
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真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶（三個(gè)靶）、單基片加熱臺(tái)、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真...
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可程控磁控濺射鍍膜儀 可程控磁控濺射鍍膜儀為單腔室結(jié)構(gòu)，主要由濺射真空室、磁控濺射靶、離子轟擊、公轉(zhuǎn)基片臺(tái)、光加熱系統(tǒng)、濺射電源、工作氣路、真...
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高真空磁控濺射鍍膜儀 高真空磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉(zhuǎn)臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等...
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單室磁控濺射鍍膜儀 單室磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組...
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CY-in-line磁... CY-in-line磁控濺射系統(tǒng)主要由進(jìn)樣室、濺射室、出樣室、基片傳遞機(jī)構(gòu)、抽氣及真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、安裝...
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雙靶高真空磁控等離子濺... 雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀緊湊型磁控濺射系統(tǒng)，具有雙靶2"目標(biāo)源，例如，一個(gè)直流源用于涂覆金屬薄膜，另一個(gè)射頻源用于...
